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口腔正畸学(副高)

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X线头影测量的主要应用有

  • A、可研究颅面生长发育
  • B、可对牙、颅面畸形作诊断分析
  • C、可确定错畸形的矫治设计
  • D、可用于研究矫治过程中及矫治后的牙颌、颅面形态结构变化
  • E、可作为外科正畸诊断和矫治设计依据
正确答案:A,B,C,D,E
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