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口腔正畸学(副高)［025］

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再次应答最主要的特点是

  • A、潜伏期长
  • B、IgG大量产生
  • C、IgM产生量大
  • D、IgG与IgM的产生量相似
  • E、IgG的亲和力没变化
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