PFM冠金属基底理想的氧化层厚度是

• A、0.2～2μm
• B、2～3μm
• C、3～4μm
• D、4～5μm
• E、5～6μm

基底冠除气、预氧化一般在半真空下以遮色瓷的烧结温度加热

• A、1min
• B、3min
• C、5min
• D、8min
• E、10min