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口腔医学技术(师)[代码:205]

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真空烤瓷炉对其温度参数和时间参数进行精密的控制。在使用中要求操作人员按严格的程序进行操作。

真空烤瓷炉的温度参数和时间参数主要包括(  )。

  • A、预热温度,烤瓷温度,预热时间,烤瓷时间,最终温度持续时间
  • B、预热温度,烤瓷温度,预热时间,烤瓷时间,最终温度持续时间,真空烤瓷时间
  • C、现时温度,烤瓷温度,预热时间,烤瓷时间,最终温度持续时间,真空烤瓷时间
  • D、现时温度,最终温度,预热时间,升温时间,最终温度持续时间,真空烤瓷时间
  • E、现时温度,最终温度,预热时间,烤瓷时间,最终温度持续时间,真空烤瓷时间
正确答案:D

在烤瓷过程中有一道工艺叫上釉,上釉有两种方法:自行上釉和分别上釉,其中自行上釉要求把烧好的瓷体在高于体瓷烧熔温度下保持数分钟,高于体瓷烧熔温度的范围是(  )。

  • A、31~40℃
  • B、21~30℃
  • C、10℃以内
  • D、11~20℃
  • E、5℃
正确答案:C

在烤瓷过程中不能使烤瓷件与炉膛内壁接触,如果接触,可能造成的最严重的后果是(  )。

  • A、烤瓷失败
  • B、烤瓷失败,烤瓷件报废
  • C、烤瓷件与炉膛内壁发生粘连
  • D、炉膛报废
  • E、发热体损坏
正确答案:C
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