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口腔正畸学(正高)[025]
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口腔正畸学(正高)[025]
X线头影测量的主要应用有
A、可研究颅面生长发育
B、可对牙
、颅面畸形作诊断分析
C、可确定错
畸形的矫治设计
D、可用于研究矫治过程中及矫治后的牙颌、颅面形态结构变化
E、可作为外科正畸诊断和矫治设计依据
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